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蒸發(fā)鍍膜儀是一種在真空環(huán)境中，通過加熱使材料蒸發(fā)并沉積到目標表面形成薄膜的設備，它在前沿科研和工業(yè)制造中都有廣泛且關鍵的用途。本設備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜的多功能桌面型儀器。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
設備參數(shù)：
★真空室：?220mm*H380mm（可選石英腔體或金屬腔體）；
★最大可鍍工件直徑：DN100mm,配卡口或抽查式樣品臺，樣品可旋轉；另配備銅基板樣品臺；
★極限真空度：優(yōu)于9*10-1Pa（機械泵系統(tǒng)）、選配：優(yōu)于8*10-5Pa（分子泵系統(tǒng)）；
★抽氣時間：大氣壓~5Pa小于5min；
★蒸發(fā)源：電阻式蒸發(fā)電極（1對），配擋板系統(tǒng)；
★蒸發(fā)電源 功率：2KW；配備1套數(shù)顯蒸發(fā)電源；
★開啟方式：正面開門結構或鐘罩開啟，便于換絲及裝料；
★真空系統(tǒng)：機械泵真空系統(tǒng)（機械泵+分子泵系統(tǒng)選配）；
★標配PLC+觸摸屏控制。
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