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產(chǎn)品中心

產(chǎn)品摘要

該設(shè)備配備了多個(gè)磁控濺射源，能夠沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料，并可用于濺射多層薄膜和共濺合金薄膜。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★一體化設(shè)計(jì)精細(xì)布局，更節(jié)省的空間和更精致的外形，可添加進(jìn)樣功能

★4支2-4英寸磁控濺射靶，可濺射2-8寸的硅片，托盤8英寸內(nèi)均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★西門子PLC+觸摸屏手自動(dòng)控制或電腦+PLC全自動(dòng)控制可選

設(shè)備參數(shù)：

★整機(jī)尺寸（L×W×Hmm)：1400×1300×1900

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：500×500×500/600×600×500

★基片臺(tái)：襯底最高加熱溫度500-800℃

★真空極限：5×10^-5Pa

★抽速保壓：8×10-4Pa≤30min保壓12小時(shí)≤8pa

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶槍四個(gè)（2-3英寸/2-4英寸）濺射尺寸2-6英寸

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