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產(chǎn)品中心

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PD-300C小型磁控濺射設(shè)備

產(chǎn)品摘要

該系統(tǒng)適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜、掃描電鏡制樣電極材料制備等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿足大專院校的教學(xué)與科研工作。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★設(shè)備采用共焦濺射結(jié)構(gòu)，靶槍高度、角度可以調(diào)節(jié)

★工藝氣體從真空室抽氣口前部通入靶面，抽氣口位于真空室側(cè)部，保證整個(gè)真空室內(nèi)反應(yīng)氣體濃度穩(wěn)定一致

★西門子PLC+觸摸屏手自動(dòng)控制或電腦+PLC全自動(dòng)控制可選

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：300×300×380

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：600×900×1900

★基片臺(tái)：襯底最高加熱溫度500℃，室溫至200度精度±3℃，300度至500度精度±1.5℃樣品臺(tái)可加負(fù)偏壓-800V

★真空極限：（5E﹣05）Pa

★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤30min保壓12小時(shí)≤8pa

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶槍兩個(gè)（2-3英寸）濺射尺寸2-4英寸

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PD-300C小型磁控濺射設(shè)備

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